11月3日，据报道，第六届中国国际进口博览会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波接受媒体采访时透露，“到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量已接近1400台。”

图片来源：ASML官网

沈波表示，预计2023财年，公司全球销售额增长30%，将达270余亿欧元。据ASML最新季报，预计2025年，现有晶圆厂产能将会增加并有新的晶圆厂投入使用，半导体设备行业将会迎来比较大的增长，迎来需求的“高潮”。

他还透露，“我们现如今对自己产能的判断，目标是在2025年底或2026年初，具备每年500台-600台深紫外（DUV）的设备产能。”

ASML：中国已有近1400台ASML光刻机

据统计，2022年全球光刻机市场，其中ASML占据82%的市场份额，佳能和尼康分别以10%和8%的市场份额稳居第二和第三位。

作为顶级厂商，ASML是目前世界上唯一使用极紫外光（EUV）的光刻机制造商，其90%的零部件都来自于外购。

ASML部分供应商名单如下：

据外媒报道，2023年第一季度，ASML向中国大陆出货23台光刻机。其中，主要型号包括ArF、KrF等中低端光刻机。

第三季度，ASML共出售了105台全新光刻机以及7台二手光刻机，全新光刻机包括11台EUV、32台ArFi（浸润式DUV光刻机）、9台ArF dry（干式DUV光刻机）、44台KrF以及16台I-Line。

目前，中国大陆已经成为ASML最重要的市场之一。据2023年第三季度财报显示，当季中国大陆的销售额占ASML整体销售额的比重升至46%。累积前三个季度，ASML共计向中国大陆市场销售了约53亿欧元的光刻机，折算人民币为400多亿元。

按照终端应用方面划分，以销售额计算，用于制造逻辑芯片的光刻机出货占比76%，用于制造存储芯片的占比24%。以销售额计算，ArFi浸润式光刻机占比高达48%，EUV光刻机占比35%。

现如今，ASML在中国设有16个办事处、12个仓储物流中心、3个开发中心、1个培训中心以及1个维修中心，ASML在中国大陆的员工总人数已经超过1600人。

ASML助力晶圆厂

美国新规对ASML业务有何影响？

10月17日，美国政府颁布了最新的出口管制规则。ASML表示，正在深入评估潜在的影响。不过ASML认为，受到新规影响的中国晶圆厂数量有限。

对此消息，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波表示：目前我们还在对新出口管制政策进行研究。如果以今年我们在中国的业务为基础，明年的业务大概会受到10%-15%的影响。

从公司角度来看，到2030年行业整体趋势呈现起伏性增长，因此新出口管制政策对公司的销售总体趋势影响并不大。同时他补充道：“只有我们部分浸润式产品明年会被纳入出口管制的范围，并非所有产品。即使有了新的出口管制，我们还有非常大的一块浸润式的业务在中国。”

对于中国而言，将成熟制程芯片做到具有竞争力的水平，是提高投入产出比的最有效途径。中国市场就像一个缩小的全球市场，拥有各种客户和产品。ASML的服务不仅限于机器的维修和维护，更在于帮助客户充分利用设备并优化工艺流程。

过去几年，ASML每年DUV设备的供应能力约为200台左右。预计到2023年，DUV设备制造产能将达到300多台，但供应缺口仍然很大。近年来，公司不断与供应商沟通，以确保顺利实现2025年底600台设备的目标产能。

但需要注意的是，尽管ASML宣布将继续对我国市场出货，并表示在三、四季度将有27台光刻机运往中国，但此外还有600亿尚未交付的生产订单，看似是在向我们示好，实则另有目的。

面对ASML的主动示好，我们不能掉以轻心，要坚定不移的走科技自主化研发，只有掌握足够的核心技术，才能在接下来的竞争中，始终立于不败之地！

两年时间

中国半导体装备进步如何 

回顾一下，两年前中国半导体装备行业的一个概况，包括光刻机在内，几种主流半导体装备的指标满足情况大致如下：

两年时间过去后，国内厂商的追赶情况大致如下：

在2000年左右，我国才开始大规模投入光刻机的研发，并建立了多个光刻机研发和生产基地。通过与国际知名企业合作、引进先进技术和培育本土企业，华大、北方华创、中微半导体等逐渐开始崭露头角。

目前EUV长期被限，2024年高端浸没式也将断供。我国光刻机仍是卡脖子最关键环节，实现高端光刻机的国产替代至关重要。

如今，我国光刻机攻尖采取类ASML的模式，细分各科研院所、高校做分系统，再由SMEE进行整机组装。中科院微电子所、长光所、上光所，清华大学、浙江大学、哈工大等均参与光刻机的研发。

上海微电子，已成功研制出了DUV（深紫外）光刻机。可用于量产28纳米中低端芯片，标志着中国在半导体制造领域取得了一项重要的突破。

来源于：官网

中芯国际，已能够利用其现有的ASML浸没式光刻机生产出7纳米的芯片，并且为华为提供了手机芯片。

虽然当前国内与国外顶尖光刻机制程仍存在较大差距，但人才是决定技术发展的关键，强如台积电、三星、苹果、华为，都是靠着到处挖技术人员，站上了行业前列的位置。

台积电内部绝大多数都是德州仪器出来的人；三星靠着3倍薪资的待遇，挖走了许多同行的技术人员，打败了当年的闪存老大东芝；而华为专挖有能力创造技术专利的人，比如加大拿北电网络的主管童文等。

国产光刻机供应商如下：

光刻机国产化是中国半导体产业发展的重要方向之一。通过加大研发力度、人才培养和引进、合作与交流、产业协同和政策支持等方面的努力，加速中国光刻机技术的发展，提高自主创新能力和国际竞争力。

来源：EDA365电子论坛

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